Skip navigation

Browsing by Subject deposition rate

Jump to: 0-9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z
А Б В Г Д Е Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ъ Ы Ь Э Ю Я
 
Showing results 1 to 3 of 3
Issue DateTitleAuthor(s)
2016The increase in thickness uniformity of films obtained by magnetron sputtering with rotating substrateGolosov, D. A.; Melnikov, S. N.; Zavadski, S. M.; Kolos, V. V.; Okojie, J.
2018Особенности нанесения тонких пленок сегнетоэлектриков при высокочастотном магнетроном распыленииОкоджи, Д. Э.; Голосов, Д. А.
2022Разрядные характеристики магнетронной распылительной системы при реактивном магнетронном распылении металлической ванадиевой мишени на постоянном и импульсном токеНестерчик, Р. И.