Skip navigation

Browsing by Subject magnetron sputtering systems

Jump to: 0-9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z
А Б В Г Д Е Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ъ Ы Ь Э Ю Я
 
Showing results 1 to 3 of 3
Issue DateTitleAuthor(s)
2022Влияние временных характеристик импульсного питания на дугообразование и стабильность процесса при реактивном магнетронном распыленииНестерчик, Р. И.
2022Разрядные характеристики магнетронной распылительной системы при реактивном магнетронном распылении металлической ванадиевой мишени на постоянном и импульсном токеНестерчик, Р. И.
2021Формирование и исследование характеристик терморезистивных структур на основе пленок оксида ванадияНгуен, Т. Д.; Занько, А. И.; Голосов, Д. А.; Завадский, С. М.; Мельников, С. Н.; Колос, В. В.; Толочко, Н. К.