Skip navigation

Browsing by Subject reactive magnetron sputtering

Jump to: 0-9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z
А Б В Г Д Е Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ъ Ы Ь Э Ю Я
 
Showing results 1 to 8 of 8
Issue DateTitleAuthor(s)
2020Effect of the Degree of Aluminum Doping on the Mechanical and Tribological Characteristics of Titanium-Aluminum Nitride FilmsGolosov, D. A.; Oks, E. M.; Burdovitsin, V. A.; Nguyen, T. D.; Melnikov, S. N.; Zavadski, S. M.; Pobol, I. L.; Kananovich, N. A.; Tian, Xiubo; Lam, N. N.
2022Болометрические характеристики пленок оксида ванадия при легировании вольфрамомТо, К. Т.
2022Влияние временных характеристик импульсного питания на дугообразование и стабильность процесса при реактивном магнетронном распыленииНестерчик, Р. И.
2022Разрядные характеристики магнетронной распылительной системы при реактивном магнетронном распылении металлической ванадиевой мишени на постоянном и импульсном токеНестерчик, Р. И.
2021Структурно-фазовые характеристики пленок оксида ванадияНгуен, Т. Д.; Занько, А. И.; Голосов, Д. А.; Завадский, С. М.; Мельников, С. Н.; Колос, В. В.; То, Т. К.
2016Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давленииДостанко, А. П.; Голосов, Д. А.; Завадский, С. М.; Мельников, С. Н.; Окоджи, Д. Э.; Котинго, Д. Д.; Рубан, Г. М.
2020Формирование пленок оксида тантала на подложках диаметром 200 миллиметровВилья, Н.; Голосов, Д. А.; Мельников, С. Н.; Нгуен, Т. Д.; Голосов, А. Д.
2020Электрофизические свойства пленок оксида ванадия, нанесенных методом реактивного магнетронного распыленияНгуен, Т. Д.; Занько, А. И.; Голосов, Д. А.; Завадский, С. М.; Мельников, С. Н.; Колос, В. В.