Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/11143
Title: Безмасковая литография – требование сегодняшнего дня
Other Titles: Mask-free Lithography is Today’s Requirement
Authors: Плебанович, В. И.
Plebanovich, V. I.
Keywords: публикации ученых
безмасковая литография
генератор изображений
окно процесса
полупроводниковые пластины
mask-free lithography
pattern generator
process panel
semiconductor wafer
Issue Date: 2015
Publisher: РИЦ «Техносфера», Россия
Citation: Плебанович, В. И. Безмасковая литография – требование сегодняшнего дня / В. И. Плебанович // Электроника НТБ. – 2015. – №7. – С. 112 – 118.
Abstract: При малых объёмах выпуска стоимость комплекта фотошаблонов может быть в несколько раз дороже производства кристаллов. Полностью исключить процесс изготовления фотошаблонов позволяет только безмасковая литография.For small production volume, the cost of a set of masks can be a few times more expensive than die fabrication. Mask fabrication process can only be eliminated by mask-free lithography.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/11143
Appears in Collections:Публикации в изданиях других стран

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
110915.pdf1,94 MBAdobe PDFView/Open
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.