| Название: | Безмасковая литография – требование сегодняшнего дня |
| Другие названия: | Mask-free Lithography is Today’s Requirement |
| Авторы: | Плебанович, В. И. |
| Ключевые слова: | публикации ученых;безмасковая литография;генератор изображений;окно процесса;полупроводниковые пластины;mask-free lithography;pattern generator;process panel;semiconductor wafer |
| Дата публикации: | 2015 |
| Издательство: | РИЦ «Техносфера» |
| Описание: | Плебанович, В. И. Безмасковая литография – требование сегодняшнего дня / В. И. Плебанович // Электроника НТБ. – 2015. – №7. – С. 112 – 118. |
| Аннотация: | При малых объёмах выпуска стоимость комплекта фотошаблонов может быть в несколько раз дороже производства кристаллов. Полностью исключить процесс изготовления фотошаблонов позволяет только безмасковая литография. |
| Аннотация на другом языке: | For small production volume, the cost of a set of masks can be a few times more expensive than die fabrication. Mask fabrication process can only be eliminated by mask-free lithography. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/11143 |
| Располагается в коллекциях: | Публикации в зарубежных изданиях
|
