| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Плебанович, В. И. | - |
| dc.date.accessioned | 2017-01-03T14:10:56Z | - |
| dc.date.accessioned | 2017-07-27T11:59:38Z | - |
| dc.date.available | 2017-01-03T14:10:56Z | - |
| dc.date.available | 2017-07-27T11:59:38Z | - |
| dc.date.issued | 2015 | - |
| dc.identifier.citation | Плебанович, В. И. Безмасковая литография – требование сегодняшнего дня / В. И. Плебанович // Электроника НТБ. – 2015. – №7. – С. 112 – 118. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/11143 | - |
| dc.description.abstract | При малых объёмах выпуска стоимость комплекта фотошаблонов может быть в несколько раз дороже производства кристаллов. Полностью исключить процесс изготовления фотошаблонов позволяет только безмасковая литография. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | РИЦ «Техносфера» | ru_RU |
| dc.subject | публикации ученых | ru_RU |
| dc.subject | безмасковая литография | ru_RU |
| dc.subject | генератор изображений | ru_RU |
| dc.subject | окно процесса | ru_RU |
| dc.subject | полупроводниковые пластины | ru_RU |
| dc.subject | mask-free lithography | ru_RU |
| dc.subject | pattern generator | ru_RU |
| dc.subject | process panel | ru_RU |
| dc.subject | semiconductor wafer | ru_RU |
| dc.title | Безмасковая литография – требование сегодняшнего дня | ru_RU |
| dc.title.alternative | Mask-free Lithography is Today’s Requirement | ru_RU |
| dc.type | Article | ru_RU |
| local.description.annotation | For small production volume, the cost of a set of masks can be a few times more expensive than die fabrication. Mask fabrication process can only be eliminated by mask-free lithography. | - |
| Appears in Collections: | Публикации в зарубежных изданиях
|
