Skip navigation
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/12603
Название: Моделирование процессов переноса электронов в полупроводниковой структуре из карбида кремния
Другие названия: Modeling of electrons transfer in silicon carbide semiconductor structures
Авторы: Муравьев, В. В.
Мищенко, В. Н.
Ключевые слова: доклады БГУИР;карбид кремния;процессы переноса электронов;метод Монте-Карло;silicon carbide;electron transfer processes;Monte Carlo method
Дата публикации: 2017
Издательство: БГУИР
Описание: Муравьев, В. В. Моделирование процессов переноса электронов в полупроводниковой структуре из карбида кремния / В. В. Муравьев, В. Н. Мищенко // Доклады БГУИР. - 2017. - № 2 (104). - С. 53 - 57.
Аннотация: Приведены результаты моделирования процессов переноса электронов в трехмерной структуре из 4H-SiC карбида кремния с использованием метода Монте-Карло. Использование материала 4H-SiC по сравнению с другими модификациями карбида кремния позволяет получить ряд преимуществ при изготовлении приборов и последующей эксплуатации. Получены зависимости средней дрейфовой скорости, средней энергии электронов, подвижности электронов, а также коэффициента диффузии от напряженности электрического поля.
Аннотация на другом языке: The results of the simulation of electron transfer processes in the three-dimensional structure of 4H- SiC silicon carbide are presented using the Monte Carlo method. The dependence of the average drift velocity, average energy and electron mobility of electrons and the diffusion coefficient from the electric field are Obtained.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/12603
Располагается в коллекциях:№2 (104)

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Muravyev_Modelirovaniye.PDF588.42 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание Просмотр статистики Google Scholar

Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.