Технологические особенности формирования плат со встроенной системой межсоединений в подложках анодного оксида алюминия

Abstract

Изложен результат исследований создания системы межсоединений в процессе формирования подложки анодного оксида алюминия. Варьируя параметрами процесса анодирования и последовательностью технологических операций можно одновременно формировать подложку Al2O3 и систему межсоединений в ее обьеме с выводом на поверхность контактных площадок. Толщина подложки анодного Al2O3, расположение системы межсоединений в ее объеме, размеры проводящих дорожек и площадок задаются в методике изготовления конкретной платы. С помощью внешних выводов к этой системе межсоединений можно подсоединить навесные или формируемые в дальнейшем на поверхности подложки элементы микросхемы.