Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/25128
Title: Декорирование кремниевых структур методом химического осаждения меди на пористый кремний
Other Titles: Decoration of silicon structures by chemical deposition of nanostructured copper films on porous silicon
Authors: Рощин, Л. Ю.
Бондаренко, А. В.
Keywords: доклады БГУИР;мезопористый кремний;наноструктурированные пленки меди;химическое осаждение;porous silicon;nanostructured copper films;chemical deposition
Issue Date: 2017
Publisher: БГУИР
Citation: Рощин, Л. Ю. Декорирование кремниевых структур методом химического осаждения меди на пористый кремний / Л. Ю. Рощин, А. В. Бондаренко // Доклады БГУИР. - 2017. - № 4 (106). - С. 37 - 42.
Abstract: Представлены результаты, отражающие основные аспекты экспериментальных исследований по выявлению закономерностей формирования и изучению структурных и оптических свойств наноструктурированных пленок меди, получаемых методом химического осаждения на пористый кремний из растворов солей меди и фтористоводородной кислоты для их применения в процессе декорирования поверхности кремниевых структур.
Alternative abstract: The results of experimental study of formation regularities, structural and optical properties of nanostructured copper films chemically deposited on porous silicon from solutions of copper sulfate and hydrofluoric acid are presented. Application of the developed solution for the copper deposition on porous silicon in the decoration process of silicon structures are demonstrated.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/25128
Appears in Collections:№4 (106)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Roshchin_Dekorirovaniye.PDF1.27 MBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.