Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/30765
Title: Методы повышения устойчивости КМОП БИС к внешним воздействиям
Other Titles: Methods of increasing CMOS VLSIs stability to radiation exposure
Authors: Баранов, В. В.
Прибыльский, А. В.
Keywords: доклады БГУИР;МОП-транзисторы;спецстойкость микросхем
Issue Date: 2003
Publisher: БГУИР
Citation: Баранов, В. В. Методы повышения устойчивости КМОП БИС к внешним воздействиям / В. В. Баранов, А. В. Прибыльский // Доклады БГУИР. - 2003. - № 1. - С. 102 - 106.
Abstract: Проанализировано влияние основных технологических операций на радиационно- чувствительные параметры КМОП БИС. Определены причины отказов БИС при импульсном воздействии γ-излучения и показано, что повысить их устойчивость к внешним воздействиям можно путем задания нормативных уровней разброса параметров активных элементов и модификации конструкции МОП-транзисторов.
Alternative abstract: Influence of principal technological processes on radiation dependent parameters of CMOS LSIs has been analyzed. LSIs failure mechanisms are determined under γ-radiation pulse action. It is shown that LSIs stability may be increased with being given a certain levels of parameters distribution of active elements and modification of MOS transistor design.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/30765
Appears in Collections:№1

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Baranov_Metody.pdf184.01 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.