https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31198| Title: | Направления развития магнетронных распылительных систем |
| Other Titles: | Directions of magnetron sputtering systems developments |
| Authors: | Свадковский, И. В. |
| Keywords: | доклады БГУИР;магнетрон низкого давления;несбалансированный магнетрон;реактивное распыление |
| Issue Date: | 2007 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Свадковский, И. В. Направления развития магнетронных распылительных систем / И. В. Свадковский // Доклады БГУИР. - 2007. - № 2 (18). - С. 112 - 121. |
| Abstract: | Рассмотрены вопросы функционирования магнетронных распылительных систем постоянного тока, определены перспективные направления развития метода, включающие понижение рабочего давления, разработку устройств несбалансированного типа и многокатодных распылительных систем. Освещены проблемы формирования компонентных пленок с использованием химически активной плазмы и перспективные методы технологической реализации реактивных процессов нанесения. |
| Alternative abstract: | The aspects of functioning direct current magnetron sputtering systems have been investigated. Perspective directions of developing magnetron sputtering methods, including low- pressure sputtering, unbalanced magnetron sputtering and many cathodes sputtering have been defined. Also it have been investigated problems of components coating deposition using chemically active plasma and promising technologically methods reactive magnetron sputtering. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31198 |
| Appears in Collections: | №2 (18) |
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Svadkovski_Directions.pdf | 552.5 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.