Коэффициент старения наноструктурных тонкопленочных резисторов на основе анодированной системы Al/Ta

Abstract

Одной из важнейших характеристик конструктивных материалов РЭА является их коэффициент старения, определяющий временную стабильность электрофизических параметров. Все конструктивные элементы РЭА, в том числе и резисторы должны обладать хорошими показателями по временной стабильности своих параметров и обеспечивать их сохранение в пределах допуска на протяжении всего эксплуатационного срока. В случае существенного отклонения таких параметров от номинального значения с течением времени, ухудшается точность работы и долговечность всего при¬бора в целом. Поэтому, при создании или модификации любого конструктивного материал, особенно на основе тонких пленок, важно иметь результаты исследования его временной стабильности и расчеты коэффициента старения. В данной работе были проведены исследования временной стабильности резистивных параметров наноструктурных тонкопленочных резисторов (ТПР) на основе двухслойной системы Al/Ta и рассчитан их коэффициент старения.