Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/32885
Title: Ионное наслаивание наноразмерных пленочных структур на основе сульфидов самария
Authors: Галковский, Т. В.
Богомазова, Н. В.
Мурашкевич, А. Н.
Захлебаева, А. И.
Горох, Г. Г.
Keywords: публикации ученых;сульфидные пленки;гетероструктуры;ионное наслаивание
Issue Date: 2018
Publisher: Институт тепло- и массообмена им. А.В. Лыкова НАН Беларуси
Citation: Ионное наслаивание наноразмерных пленочных структур на основе сульфидов самария / Т. В. Галковский [и др.] // Наноструктуры в конденсированных средах: сборник научных статей. – Минск: НАН Беларуси, 2018. – С. 189 – 194.
Abstract: Определены оптимальные режимы формирования однородного функционального покрытия SmSx методом многократного ионного наслаивания на поверхности низкопрофильных матриц анодного оксида алюминия на кремниевых пластинах. Безградиентная генерация термоЭДС в профилированных матричных пленках SmSx/Al2O3/Si толщиной 0,5-1,5 мкм начинается при температуре около 150°С. Значения коэффициента Зеебека в интервале температур 150-170°С составили около 400 мкВ/К.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/32885
Appears in Collections:Публикации в изданиях Республики Беларусь

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Galkovskiy_Ionnoye.pdf125.95 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.