| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Петров, А. В. | - |
| dc.contributor.author | Гурский, Л. И. | - |
| dc.contributor.author | Каланда, Н. А. | - |
| dc.contributor.author | Телеш, Е. В. | - |
| dc.contributor.author | Минин, К. А. | - |
| dc.date.accessioned | 2018-10-18T11:22:06Z | - |
| dc.date.available | 2018-10-18T11:22:06Z | - |
| dc.date.issued | 2010 | - |
| dc.identifier.citation | Формирование структур PbZr0,54Ti0,46O3 в треках быстрых тяжелых ионов / А. В. Петров и др. // Доклады БГУИР. - 2010. - № 3 (49). - С. 62 - 67. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/33234 | - |
| dc.description.abstract | Рассматриваются особенности создания нанокластеров PbZr0,54Ti0,46O3 в протравленных
треках быстрых тяжелых ионов, сформированных в тонких слоях SiO2 на подложках монокристаллического кремния ориентации (100). Данная методика включает химическое осаждение металлов Pb, Zr и Ti в ионные треки, полученные облучением структуры Si/SiO2
ионами 197Au26+ с энергией 350 МэВ и флюенсом 5Ч108 см–2 с последующим отжигом при
температуре Тотж=550єC и давлении кислорода pO2=2Ч105 Па. Параметры отжига структуры
Si/SiO2 (PbZr0,54Ti0,46O3) были определены благодаря оптимизации процесса термообработки
пленочных структур идентичного состава, напыленных ионно-лучевым методом на подложки Si/SiO2. Структурные особенности формирования нанокластеров PbZr0,54Ti0,46O3 выявлены с помощью рентгеновской фотоэмиссионной спектроскопии. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | доклады БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | треки быстрых тяжелых ионов | ru_RU |
| dc.subject | нанопоры | ru_RU |
| dc.subject | диоксид кремния | ru_RU |
| dc.subject | цирконат- титанат свинца | ru_RU |
| dc.subject | нанокластеры | ru_RU |
| dc.subject | диэлектрическая фаза | ru_RU |
| dc.title | Формирование структур PbZr0,54Ti0,46O3 в треках быстрых тяжелых ионов | ru_RU |
| dc.title.alternative | Formation of PbZr0,54Ti0,46O3 structures in swift heavy ion tracks | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| local.description.annotation | A methodology of formation of PbZr0,54Ti0,46O3 nanoclusters in etched swift heavy ion tracks
formed in SiO2 thin layers on single-crystalline (100) silicon substrates is developed in the present
work. This methodology includes chemical deposition of Pb, Zr and Ti metals in the ion tracks obtained by irradiation of Si/SiO2 structure by ионами 197Au26+ ions with energy 350 MeV and fluence
5Ч108 cm–2 and their subsequent annealing at T=550єС and oxygen pressure pO2=2Ч105 Pа. Annealing
parameters of the Si/SiO2 (PbZr0,54Ti0,46O3) structure were determined due to optimization of thermal
treatment of thin-film structures having an identical composition, which have been sputtered on
Si/SiO2 substrates. Characteristic features of PbZr0,54Ti0,46O3 nanocluster structure formation process
are revealed by means of the X-ray photoemission spectroscopy. | - |
| Appears in Collections: | №3 (49)
|
