Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/33763
Title: Технологические особенности сквозного двухстороннего анодирования при формировании алюмооксидных оснований для микрополосковых СВЧ-структур
Authors: Шиманович, Д. Л.
Яковцева, В. А.
Шиманович, А. Д.
Беспрозванный, Е. Д.
Алясова, Е. Е.
Keywords: публикации ученых;анодированный алюминий;биполярное анодирование;anodized aluminum;bipolar anodization
Issue Date: 2018
Publisher: Буки Веди
Citation: Технологические особенности сквозного двухстороннего анодирования при формировании алюмооксидных оснований для микрополосковых СВЧ-структур / Д. Л. Шиманович и другие // Новые материалы и перспективные технологии : сборник материалов Четвертого междисциплинарного научного форума с международным участием, Москва, 2018 г. : в 3-х т., секция 4 «Функциональные материалы» / Буки Веди. - Москва, 2018. – Т. 2. – С. 771 - 774.
Abstract: Представлены результаты разработки технологических способов формирования оснований для структур СВЧ-диапазона в виде толстослойных (100 – 400 мкм) свободных пластин анодного оксида алюминия.
Alternative abstract: The results of the development of technological solutions for the structures of the microwave range in the form of thick-layer (100 - 400 microns) free plates of anodic aluminum oxide are presented.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/33763
Appears in Collections:Публикации в зарубежных изданиях

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Shimanovich_Tekhnologicheskiye.PDF1.04 MBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.