Skip navigation
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/33763
Название: Технологические особенности сквозного двухстороннего анодирования при формировании алюмооксидных оснований для микрополосковых СВЧ-структур
Авторы: Шиманович, Д. Л.
Яковцева, В. А.
Шиманович, А. Д.
Беспрозванный, Е. Д.
Алясова, Е. Е.
Ключевые слова: публикации ученых
анодированный алюминий
биполярное анодирование
anodized aluminum
bipolar anodization
Дата публикации: 2018
Издательство: Буки Веди, Москва, РФ
Библиографическое описание: Технологические особенности сквозного двухстороннего анодирования при формировании алюмооксидных оснований для микрополосковых СВЧ-структур / Д. Л. Шиманович и другие // Новые материалы и перспективные технологии : сборник материалов Четвертого междисциплинарного научного форума с международным участием, Москва, 2018 г. : в 3-х т., секция 4 «Функциональные материалы» / Буки Веди. - Москва, 2018. – Т. 2. – С. 771 - 774.
Краткий осмотр (реферат): Представлены результаты разработки технологических способов формирования оснований для структур СВЧ-диапазона в виде толстослойных (100 – 400 мкм) свободных пластин анодного оксида алюминия. The results of the development of technological solutions for the structures of the microwave range in the form of thick-layer (100 - 400 microns) free plates of anodic aluminum oxide are presented.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/33763
Располагается в коллекциях:Публикации в изданиях других стран

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Shimanovich_Tekhnologicheskiye.PDF1,04 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.