| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Невлюдов, И. Ш. | - |
| dc.contributor.author | Гурин, Д. В. | - |
| dc.contributor.author | Гурин, В. Н. | - |
| dc.contributor.author | Хрусталев, К. Л. | - |
| dc.date.accessioned | 2018-12-19T06:50:58Z | - |
| dc.date.available | 2018-12-19T06:50:58Z | - |
| dc.date.issued | 2018 | - |
| dc.identifier.citation | Низкотемпературная плазма магнетронного разряда / И. Ш. Невлюдов и др. // Доклады БГУИР. - 2018. - № 8 (118). - С. 93 - 100. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/33920 | - |
| dc.description.abstract | В статье исследуется низкотемпературная плазма магнетронного разряда устройства,
используемого для синтеза диэлектрических пленок реактивным катодным распылением [1]. Целью
исследования является определение температурных характеристик частиц плазмы и распыленного вещества,
а также механизма образования химической связи между распыленными атомами и молекулами активного
газа. Исследование состава и энергетических параметров плазмы, а также химический состав полученных
при распылении частиц вещества, проведен спектроскопическим методом. Количественный состав
определялся масс-спектрометром для определения состава распыленных частиц. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | доклады БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | магнетронная камера | ru_RU |
| dc.subject | масс-спектрометрия | ru_RU |
| dc.subject | азотная плазма | ru_RU |
| dc.subject | распыление | ru_RU |
| dc.subject | аргоновая плазма | ru_RU |
| dc.subject | magnetron chamber | ru_RU |
| dc.subject | mass spectrometry | ru_RU |
| dc.subject | nitrogen plasma | ru_RU |
| dc.subject | atomization | ru_RU |
| dc.subject | argon plasma | ru_RU |
| dc.title | Низкотемпературная плазма магнетронного разряда | ru_RU |
| dc.title.alternative | Low-temperature plasma magnetron discharge | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| local.description.annotation | The article investigates a low-temperature plasma of the magnetron discharge of a device used
for the synthesis of dielectric films by reactive cathode sputtering. The aim of the study is to determine the temperature
characteristics of plasma particles and a sputtered substance, as well as the mechanism for the formation of a chemical
bond between sputtered atoms and active gas molecules. A study of the composition and energy parameters
of the plasma, as well as the chemical composition of the particles obtained by sputtering, was carried out
by a spectroscopic method. The quantitative composition was determined by a mass spectrometer to determine
the composition of the sputtered particles. | - |
| Appears in Collections: | №8 (118)
|
