https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/34993
Название: | Особенности вертикального масштабирования при создании биполярных микросхем |
Другие названия: | Peculiarities of vertical scaling when creating bipolar microcircuits |
Авторы: | Пилипенко, В. А. Понарядов, В. В. Горушко, В. А. Шведов, В. С. Сякерский, В. С. Петлицкая, Т. В. |
Ключевые слова: | доклады БГУИР;быстрая термообработка;диэлектрик |
Дата публикации: | 2010 |
Издательство: | БГУИР |
Описание: | Особенности вертикального масштабирования при создании биполярных микросхем / В. А. Пилипенко [и др.] // Доклады БГУИР. - 2010. - № 4 (50). - С. 31 - 36. |
Аннотация: | Показано, что использование быстрых термических обработок в технологическом процессе создания интегральных микросхем позволяет формировать мелкозалегающие p-n-переходы за счет уменьшения перераспределения внедренной примеси при данной обработке без ухудшения их электрических характеристик. Разработана конструкция формирования n-p-n- и p-n-p-транзисторов, позволяющая провести вертикальное масштабирование интегральных микросхем в два раза без изменения топологических норм их проектирования. |
Аннотация на другом языке: | It is shown, that application of the fast thermal treatments in the technological process of creation of the integrated microcircuits ensures formation of the shallow bulk p-n-junctions due to reduction of redistribution of the implanted impurity with the given processing without deterioration of their electric characteristics. The formation design is developed of the n-p-n- and p-n-p-transistors, making it possible to perform the two times vertical scaling of the integrated microcircuits without variation of the layout rated norms of their design development. |
URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/34993 |
Располагается в коллекциях: | №4 (50) |
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
Pilipenko_Peculiarities.PDF | 545.31 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.