| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Котов, Д. А. | - |
| dc.contributor.author | Родионов, Ю. А. | - |
| dc.contributor.author | Ясюнас, А. А. | - |
| dc.contributor.author | Ковальчук, Н. С. | - |
| dc.date.accessioned | 2020-04-06T09:00:18Z | - |
| dc.date.available | 2020-04-06T09:00:18Z | - |
| dc.date.issued | 2020 | - |
| dc.identifier.citation | Технологические процессы осаждения и травления в технологии изготовления ИМС и МЭМС : учеб.-метод. пособие / Д. А. Котов [и др.]. – Минск : БГУИР, 2020. – 68 с. : ил. | ru_RU |
| dc.identifier.isbn | 978-985-543-477-2 | - |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/38804 | - |
| dc.description.abstract | В учебно-методическом пособии систематизированы химические и физические методы получения тонких пленок, травления твердотельных структур в вакууме и особенности их применения в технологии микроэлектроники для создания ИМС и МЭМС. Представлены характеристики технологических процессов и оборудования для осаждения тонких пленок проводящих материалов, полупроводников и диэлектриков, а также их травления. Показано место процессов формирования пленочных структур и травления твердых тел в технологической цепочке создания ИМС и МЭМС.
Предназначено для студентов всех форм обучения, изучающих дисциплины «Технология изготовления интегральных микросхем», «Технологические процессы в микроэлектронике», «Основы твердотельной электроники». | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | учебно-методические пособия | ru_RU |
| dc.subject | методы получения тонких пленок | ru_RU |
| dc.subject | травление твердотельных структур | ru_RU |
| dc.title | Технологические процессы осаждения и травления в технологии изготовления ИМС и МЭМС : учебно-методическое пособие | ru_RU |
| dc.type | Учебные материалы | ru_RU |
| Appears in Collections: | Кафедра микро- и наноэлектроники
|
