| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Ковалева, А. П. | - |
| dc.date.accessioned | 2020-05-18T09:15:03Z | - |
| dc.date.available | 2020-05-18T09:15:03Z | - |
| dc.date.issued | 2012 | - |
| dc.identifier.citation | Ковалева, А. П. Активация процесса реактивного ионно-лучевого распыления / А. П. Ковалева // Моделирование, компьютерное проектирование и технология производства электронных средств : материалы 48–ой научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов, Минск, 7 – 11 мая 2012 г. / редкол.: М. П. Батура [и др.]. – Минск : БГУИР, 2012. – С. 116-117. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/38947 | - |
| dc.description.abstract | В статье исследована микроструктура, морфология поверхности пропускание и состав слоев поликристаллического кремния, полученных осаждением из ионных пучков в вакууме, а также, проанализировано влияние режимов нанесения на характеристики пленок. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
| dc.subject | ионно-лучевое распыление | ru_RU |
| dc.subject | тонкопленочный элемент | ru_RU |
| dc.title | Активация процесса реактивного ионно-лучевого распыления | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| Appears in Collections: | Моделирование, компьютерное проектирование и технология производства электронных систем : материалы 48-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2012)
|
