https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/40881| Title: | Процесс удаления фоторезистивного слоя с применением поверхностного барьерного разряда |
| Authors: | Тубольцев, В. В. Барахоев, А. Л. Тихон, О. И. |
| Keywords: | материалы конференций;фоторезистивный слой;поверхностного барьерного разряд |
| Issue Date: | 2020 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Тубольцев, В. В. Процесс удаления фоторезистивного слоя с применением поверхностного барьерного разряда / В. В. Тубольцев, А. Л. Барахоев, О. И. Тихон // Электронные системы и технологии : сборник тезисов докладов 56-ой научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 18–20 мая 2020 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники. – Минск, 2020. – С. 401. |
| Abstract: | Процессы непрецизионной обработки кремниевых пластин с целью активации, удаления фоторезиста, очистки от загрязнений являются достаточно актуальными в настоящее время. Выполнение этих операций путём сухой плазменной обработки, в основном с применением вакуумной техники, связано с большой энергоёмкостью и крупными габаритами оборудования. Одним из альтернативных методов реализации процесса удаления фоторезистивных плёнок является обработка с использованием озоновоздушной смеси, формируемой в послесвечении разряда барьерного типа атмосферного давления [2-4]. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/40881 |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 56-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2020) |
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Tuboltsev_Protsess.pdf | 473.78 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.