https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47299| Title: | Исследование морфологии поверхности тонких пленок диоксида гафния |
| Other Titles: | Influence of thermal annealing on the optical characteristics of thin HfO2 films |
| Authors: | Зырянова, А. С. |
| Keywords: | материалы конференций;диоксид гафния;тонкие пленки;реактивное ионно-лучевое распыление;атомно-силовая микроскопия;термический отжиг;hafnium dioxide;thin films;reactive ion-beam sputtering;atomic force microscopy;thermal annealing |
| Issue Date: | 2022 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Зырянова, А. С. Исследование морфологии поверхности тонких пленок диоксида гафния / А. С. Зырянова // Электронные системы и технологии [Электронный ресурс] : сборник материалов 58-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 18-22 апреля 2022 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2022. – С. 414–416. – Режим доступа : https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/46926. |
| Abstract: | Проведено исследование морфологии поверхности пленок диоксида гафния при их нанесении реактивным ионно-лучевым распылением металлической мишени с использованием метода атомно-силовой микроскопии. Установлено, что после отжига поверхность стала более гладкой и значительно уменьшилось значение средней шероховатости. A study was made of the surface morphology of hafnium dioxide films during their deposition by reactive ion-beam sputtering of a metal target using the method of atomic force microscopy. It was found that after annealing the surface became smoother and the value of the average roughness significantly decreased. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47299 |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 58-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2022) |
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Zyryanova_Issledovaniye.pdf | 272.27 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.