Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5213
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorЗавадский, С. М.-
dc.date.accessioned2015-12-09T12:29:18Z-
dc.date.accessioned2017-07-20T07:51:36Z-
dc.date.available2015-12-09T12:29:18Z-
dc.date.available2017-07-20T07:51:36Z-
dc.date.issued2002-
dc.identifier.citationЗавадский, С. М. Интегрированные ионно-плазменные процессы формирования тонкопленочных структур на рельефных поверхностях: автореф. дисс. ... кандидата технических наук : : автореф. дисс. ... кандидата технических наук : : автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.27.06 / С. М. Завадский; науч. рук. А.П. Достанко. - Мн.: БГУИР, 2002. - 24 с.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5213-
dc.description.abstractОбъектом исследования являются интегрированные ионно-плазменные процессы формирования тонкопленочных структур из разряда в скрещенных ЕхН полях. Предметом исследования являются химико - физические процессы, закономерности и механизмы взаимодействия ионов и конденсирующегося материала, протекающие на поверхности различных подложек в процессе конденсации при ионно - плазменном нанесении тонкопленочных слоев и в условиях перераспыления.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБГУИРru_RU
dc.subjectавторефераты диссертацийru_RU
dc.subjectионru_RU
dc.subjectпленкаru_RU
dc.subjectмагнетронru_RU
dc.subjectионно - лучевой источникru_RU
dc.subjectадгезияru_RU
dc.subjectоксидru_RU
dc.subjectрельефru_RU
dc.subjectнанесениеru_RU
dc.subjectраспылениеru_RU
dc.subjectionru_RU
dc.subjectthin filmru_RU
dc.subjectmagnetronru_RU
dc.subjection beam sourceru_RU
dc.subjectadhesionru_RU
dc.subjectoxideru_RU
dc.subjectreliefru_RU
dc.subjectdepositionru_RU
dc.subjectsputteringru_RU
dc.titleИнтегрированные ионно-плазменные процессы формирования тонкопленочных структур на рельефных поверхностяхru_RU
dc.title.alternativeThe integrated ion plasma processes of thin film structures formation on complicated - relief surfacesru_RU
dc.typeAbstract of the thesisru_RU
local.description.annotationObject of investigation are development integrated ion plasma processes of thin film structures formation and systems for discharges with crossed ExH fields.Subject of investigation are physical - chemical processes regularity and mechanisms ions and condensing materials on the surface substrate during thin films deposition at the resputtering.-
Appears in Collections:05.27.06 Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Завадский.pdf1.13 MBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.