https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/8519| Title: | Исследование процессов плазменного проявления и удаления экспонированных лазером фоточувствительных материалов для разработки и освоения новой передовой технологии – вакуумной фотолитографии глубокого субмикрона: отчет о НИР (заключ.) |
| Authors: | Баранов, И. Л. Котов, Д. А. Ясюнас, А. А. Комар, О. М. Корзун, К. А. |
| Keywords: | отчеты о НИР;силилирование;глубокий субмикрон;фоторезистивная маска;фоторезист;плазмохимическое травление |
| Issue Date: | 2013 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Исследование процессов плазменного проявления и удаления экспонированных лазером фоточувствительных материалов для разработки и освоения новой передовой технологии – вакуумной фотолитографии глубокого субмикрона (заключительный) : отчет о НИР / БГУИР; научный руководитель И.Л. Баранов ; отв. исполнитель Д.А. Котов. – Минск, 2013. – 41 с. - № ГР 201138728 |
| Series/Report no.: | ГБЦ 11-3126; |
| Abstract: | Предложено и реализовано использование в качестве силилирующего агента гексаметилдисилозана (ГМДС). При обработке ГМДС OH - группы замещаются на группы О-Si(CH3)3 и поверхность становится гидрофобной, обеспечивая очень хорошую адгезию фоторезиста. В позитивных фоторезистах на основе нафтохинондиазида и новолачных смол после экспонирования и обработки в порах силилирующего агента образуется кремнийсодержащий полимерный слой. С увеличением времени обработки фоторезиста в парах ГМДС концентрация кремнийсодержащих групп возрастает, что подтверждается спектрами пропускания данных образцов. |
| Gov't Doc #: | № ГР 201138728 |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/8519 |
| Appears in Collections: | Отчеты о НИР 2013 |
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| № ГР 201138728 (11-3126)_Рук_НИР_Баранов.pdf Restricted Access | 2.28 MB | Adobe PDF | View/Open Request a copy |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.