Исследование профилей на границе раздела Al–Al2O3 при глубоком локальном анодировании Al

Abstract

Представлена теоретическая модель поведения границы раздела плотный–пористый оксид алюминия в процессе роста пористого оксида в присутствии маски из плотного оксида. Исследованы реальные профили бокового ухода под маску на границе раздела Аl–Al2O3 при глубоком локальном анодировании Al (до 150 мкм). Проведен сравнительный анализ таких профилей бокового ухода в присутствии фоторезистивной маски и маски из плотного анодного оксида. Показано, что маскирование плотным Al2O3 является наиболее эффективным и надежным при длительном толстослойном пористом анодировании (боковой уход не превышает 10% от толщины оксида).