Skip navigation

Browsing by Subject magnetron sputtering

Jump to: 0-9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z
А Б В Г Д Е Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ъ Ы Ь Э Ю Я
 
Showing results 3 to 9 of 9 < previous 
Issue DateTitleAuthor(s)
2023Simulation of reactive magnetron sputtering system for deposition of thin filmsNguyen, V. T. A.
2016The increase in thickness uniformity of films obtained by magnetron sputtering with rotating substrateGolosov, D. A.; Melnikov, S. N.; Zavadski, S. M.; Kolos, V. V.; Okojie, J.
2016Влияние температуры отжига на сегнетоэлектрические свойства легированного ниобием танталата стронция-висмутаГолосов, Д. А.; Завадский, С. М.; Колос, В. В.; Турцевич, А. С.; Окоджи, Д. Э.
2021Исследование влияния отжига на механические и трибологические характеристики пленок нитрида титана-цирконияЛам, Н. Н.
2005Конструктивно-технологические методы формирования тонкопленочных элементов кремниевых диодов шоттки с повышенной воспроизводимостью свойств в серийном производствеСоловьев, Я. А.
2016Применение сквозного моделирования при проектировании систем магнетронного распыленияМельников, С. Н.; Голосов, Д. А.; Завадский, С. М.; Окоджи, Д. Э.; Рубан, Г. М.; Котинго, Д. Д.
2016Трибологические характеристики покрытий TiN, полученные методом реак-тивного магнетронного распыления при пониженном давленииЕрмоленко, М. В.; Завадский, С. М.; Голосов, Д. А.; Мельников, С. Н.; Замбург, Е. Г.