Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/51582
Title: Simulation of reactive magnetron sputtering system for deposition of thin films
Authors: Nguyen, V. T. A.
Keywords: материалы конференций;magnetron system;magnetron sputtering;rotating structure
Issue Date: 2023
Publisher: БГУИР
Citation: Nguyen, V. T. A. Simulation of reactive magnetron sputtering system for deposition of thin films / Nguyen V. T. A. // Электронные системы и технологии : сборник материалов 59-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 17–21 апреля 2023 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2023. – С. 1170–1173.
Abstract: This paper simulates a magnetron sputtering system based on main design features to visualize the thin film formation process. The article presents the main design features of the magnetron sputtering system that affect the speed and quality of sputtering, contributing to an increase in the productivity of thin film deposition.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/51582
Appears in Collections:Электронные системы и технологии : материалы 59-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2023)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Nguyen_Simulation.pdf1.47 MBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.