Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/12603
Title: Моделирование процессов переноса электронов в полупроводниковой структуре из карбида кремния
Other Titles: Modeling of electrons transfer in silicon carbide semiconductor structures
Authors: Муравьев, В. В.
Мищенко, В. Н.
Keywords: доклады БГУИР;карбид кремния;процессы переноса электронов;метод Монте-Карло;silicon carbide;electron transfer processes;Monte Carlo method
Issue Date: 2017
Publisher: БГУИР
Citation: Муравьев, В. В. Моделирование процессов переноса электронов в полупроводниковой структуре из карбида кремния / В. В. Муравьев, В. Н. Мищенко // Доклады БГУИР. - 2017. - № 2 (104). - С. 53 - 57.
Abstract: Приведены результаты моделирования процессов переноса электронов в трехмерной структуре из 4H-SiC карбида кремния с использованием метода Монте-Карло. Использование материала 4H-SiC по сравнению с другими модификациями карбида кремния позволяет получить ряд преимуществ при изготовлении приборов и последующей эксплуатации. Получены зависимости средней дрейфовой скорости, средней энергии электронов, подвижности электронов, а также коэффициента диффузии от напряженности электрического поля.
Alternative abstract: The results of the simulation of electron transfer processes in the three-dimensional structure of 4H- SiC silicon carbide are presented using the Monte Carlo method. The dependence of the average drift velocity, average energy and electron mobility of electrons and the diffusion coefficient from the electric field are Obtained.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/12603
Appears in Collections:№2 (104)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Muravyev_Modelirovaniye.PDF588.42 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.