https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/30834| Title: | Моделирование формирования высоколегированных элементов микросенсора |
| Other Titles: | Simulation of the microsensor element technology with high concentrations of impurities |
| Authors: | Колешко, В. М. Сергейченко, А. В. Нелаев, В. В. Красиков, М. Г. |
| Keywords: | доклады БГУИР;технология;диффузия;легирование;мебранный сенсор;теплораспределяющая область |
| Issue Date: | 2005 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Моделирование формирования высоколегированных элементов микросенсора / В. М. Колешко и другие // Доклады БГУИР. - 2005. - № 1 (9). - С. 59 - 63. |
| Abstract: | Рассмотрена конструкция термически изолированного мембранного микросенсора с теплорас- пределяющей областью. Проведено моделирование процесса диффузии из окисной пленки, полученной по золь-гель технологии, и получена зависимость распределения примеси в крем- ниевой подложке от концентрации бора в окисле и времени процесса диффузии. Выбраны оп- тимальные режимы создания теплораспределяющей области мембранного микросенсора с точки зрения минимизации градиента температуры. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/30834 |
| Appears in Collections: | №1 (9) |
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Koleshko_Simulation.pdf | 743.93 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.