| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Тумилович, М. В. | - |
| dc.contributor.author | Пилиневич, Л. П. | - |
| dc.contributor.author | Тарайкович, А. М. | - |
| dc.contributor.author | Толстик, В. Е. | - |
| dc.contributor.author | Шеко, Г. А. | - |
| dc.date.accessioned | 2017-04-13T13:12:30Z | - |
| dc.date.accessioned | 2017-07-13T06:38:06Z | - |
| dc.date.available | 2017-04-13T13:12:30Z | - |
| dc.date.available | 2017-07-13T06:38:06Z | - |
| dc.date.issued | 2017 | - |
| dc.identifier.citation | Применение метода самораспространяющегося высокотемпературного синтеза для получения пористых вакуумных вставок планшайб оборудования электронного машиностроения / М. В. Тумилович [и др.] // Доклады БГУИР. - 2017. - № 2 (104). - С. 5 - 10. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/12606 | - |
| dc.description.abstract | Приведены результаты исследования процесса получения методом
самораспространяющегося высокотемпературного синтеза пористых вакуумных вставок планшайб,
используемых при производстве полупроводниковых кремниевых пластин на предприятиях
электронного машиностроения. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | доклады БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | порошковая металлургия | ru_RU |
| dc.subject | оксинитрид титана | ru_RU |
| dc.subject | powder metallurgy | ru_RU |
| dc.subject | oxynitride of the titan | ru_RU |
| dc.title | Применение метода самораспространяющегося высокотемпературного синтеза для получения пористых вакуумных вставок планшайб оборудования электронного машиностроения | ru_RU |
| dc.title.alternative | Application of the method of self-extending high-temperature synthesis for receiving porous vacuum inserts of faceplates of electronic mechanical engineering equipment | ru_RU |
| dc.type | Article | ru_RU |
| local.description.annotation | There are given the results of research the process of receiving by method of self-extending high-
temperature synthesis of porous vacuum inserts of the faceplates used by production of semiconductor silicon
plates at the enterprises of electronic mechanical engineering. | - |
| Appears in Collections: | №2 (104)
|
