| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Родионов, Ю. А. | - |
| dc.contributor.author | Котов, Д. А. | - |
| dc.contributor.author | Плебанович, В. И. | - |
| dc.contributor.author | Ковальчук, Н. С. | - |
| dc.date.accessioned | 2017-05-16T06:22:51Z | |
| dc.date.accessioned | 2017-07-17T07:47:49Z | - |
| dc.date.available | 2017-05-16T06:22:51Z | |
| dc.date.available | 2017-07-17T07:47:49Z | - |
| dc.date.issued | 2017 | - |
| dc.identifier.citation | Родионов, Ю. А. Базовые технологические операции фотолитографии и оборудование для их реализации : учебно-методическое пособие / Ю. А. Родионов и др. – Минск : БГУИР, 2017. – 72 с. | ru_RU |
| dc.identifier.isbn | 978-985-543-249-5. | - |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/12863 | - |
| dc.description.abstract | Рассмотрены физико-химические основы базовых техпроцессов фотолитографии и
основные виды соответствующего оборудования. Особое внимание уделено выбору
технологических режимов для обеспечения качества как промежуточных операций, так
и конечного продукта в целом. Рассмотрены основные причины возникновения
типичных браков и предложены наиболее эффективные пути их минимизации.
Рекомендовано в качестве учебно-методического пособия по учебным дисциплинам
«Технология изготовления интегральных микросхем», «Технологические процессы в
микроэлектронике», «Микроэлектронные устройства». | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | учебно-методические пособия | ru_RU |
| dc.subject | фотолитография | ru_RU |
| dc.subject | литография | ru_RU |
| dc.title | Базовые технологические операции фотолитографии и оборудование для их реализации : учебно-методическое пособие | ru_RU |
| dc.type | Book | ru_RU |
| Appears in Collections: | Кафедра микро- и наноэлектроники
|
