| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Агейченко, А. С. | - |
| dc.contributor.author | Матюшков, В. Е. | - |
| dc.date.accessioned | 2014-11-25T11:46:54Z | - |
| dc.date.accessioned | 2017-07-12T11:42:42Z | - |
| dc.date.available | 2014-11-25T11:46:54Z | - |
| dc.date.available | 2017-07-12T11:42:42Z | - |
| dc.date.issued | 2011 | - |
| dc.identifier.citation | Агейченко, А. С. Новый метод управления профилем боковых стенок фоторезистов / А. С. Агейченко, В. Е. Матюшков // Доклады БГУИР. - 2011. - № 1 (55). - С. 49 - 54. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/1709 | - |
| dc.description.abstract | Рассмотрены способы управления профилем боковых стенок проявленных фоторезистов
повышенной толщины, используемых в технологии передовой упаковки микросхем методом бампинга перевернутого чипа и МЭМС. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | доклады БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | фотолитография | ru_RU |
| dc.subject | фоторезист | ru_RU |
| dc.subject | проекционный объектив | ru_RU |
| dc.subject | апертурная диафрагма | ru_RU |
| dc.title | Новый метод управления профилем боковых стенок фоторезистов | ru_RU |
| dc.title.alternative | An advanced sidewalls profile control method for thick photoresist | ru_RU |
| dc.type | Article | ru_RU |
| Appears in Collections: | №1 (55)
|
