| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Tikhon, O. I. | - |
| dc.date.accessioned | 2017-09-29T08:00:46Z | - |
| dc.date.available | 2017-09-29T08:00:46Z | - |
| dc.date.issued | 2017 | - |
| dc.identifier.citation | Tikhon, O. I. Average power microwave plasmatron for semiconducting materials removal / O. I. Tikhon // Компьютерное проектирование и технология производства электронных систем : сборник материалов 53-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 2–6 мая 2017 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; отв. ред. Раднёнок А. Л. – Минск, 2017. – С. 316–318. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/25860 | - |
| dc.description.abstract | The purpose of this paper is to review modern trends in semiconducting materials plasma processing, to show results of
photoresist removal and describe microwave plasmatron used for such treatment. | ru_RU |
| dc.language.iso | en | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
| dc.subject | average power | ru_RU |
| dc.subject | microwave plasmatron | ru_RU |
| dc.subject | semiconducting materials | ru_RU |
| dc.title | Average power microwave plasmatron for semiconducting materials removal | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| Appears in Collections: | Компьютерное проектирование и технология производства электронных систем : материалы 53-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2017)
|
