Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/29369
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorКовалевский, А. А.-
dc.contributor.authorСтрогова, А. С.-
dc.contributor.authorКомар, О. М.-
dc.date.accessioned2018-01-18T08:06:45Z-
dc.date.available2018-01-18T08:06:45Z-
dc.date.issued2017-
dc.identifier.citationКовалевский, А. А. Исследование влияния чистоты поверхности подложек на процесс образования и трансформацию нанокластеров кремний-германий = Investigation of the Influence of Cleanliness of the Substrate Surface on Formation and Transformation of the Silicon-Germanium Nanoclusters / А. А. Ковалевский, А. С. Строгова, О. М. Комар // Нано- и микросистемная техника. – 2017. – № 3. – С.149–158.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/29369-
dc.description.abstractУстановлено, что степень совершенства поверхности следует рассматривать как существенную часть общей задачи приготовления чистой поверхности перед процессом формирования нанокластеров SiGe и подавления их трансформации от наноразмеров к микроразмерам. Показано, что для самоорганизации нанокластеров SiGe выгодно малое смещение поверхностных атомов сложных структур на чистой поверхности с образованием связей типа Ge-Ge или Si-Si.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherООО "Издательство "Новые технологии"ru_RU
dc.subjectпубликации ученыхru_RU
dc.subjectтрансформацияru_RU
dc.subjectнанокластерыru_RU
dc.subjectкремнийru_RU
dc.subjectгерманийru_RU
dc.subjectоксидыru_RU
dc.subjectмогогерманru_RU
dc.subjectмоносиланru_RU
dc.subjectдиспрозийru_RU
dc.subjectиттрийru_RU
dc.titleИсследование влияния чистоты поверхности подложек на процесс образования и трансформацию нанокластеров кремний-германийru_RU
dc.title.alternativeInvestigation of the Influence of Cleanliness of the Substrate Surface on Formation and Transformation of the Silicon-Germanium Nanoclusters-
dc.typeСтатьяru_RU
dc.identifier.DOI10.17587/nmst.19.149-158-
local.description.annotationIt was established that the degree of perfection of a surface should be considered as an essential part of the general task of preparation of a clean surface before the process of formation of SiGe nanoclusters and suppression of their transformation from the nanoscale to the microscale. It was demonstrated that a small displacement of the surface atoms of the complex structures on a clean surface with formation of Ge-Ge or Si-Si bonds is beneficial for the self-organization of SiGe nanoclusters.-
Appears in Collections:Публикации в зарубежных изданиях

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Kovalevsky_Investigation.pdf506.61 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.