| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Колешко, В. М. | - |
| dc.contributor.author | Сергейченко, А. В. | - |
| dc.contributor.author | Нелаев, В. В. | - |
| dc.contributor.author | Красиков, М. Г. | - |
| dc.date.accessioned | 2018-04-03T12:16:16Z | - |
| dc.date.available | 2018-04-03T12:16:16Z | - |
| dc.date.issued | 2005 | - |
| dc.identifier.citation | Моделирование формирования высоколегированных элементов микросенсора = Simulation of the microsensor element technology with high concentrations of impurities / В. М. Колешко [и др.] // Доклады БГУИР. – 2005. – № 1 (9). – С. 59–63. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/30834 | - |
| dc.description.abstract | Рассмотрена конструкция термически изолированного мембранного микросенсора с теплораспределяющей областью. Проведено моделирование процесса диффузии из окисной пленки, полученной по золь-гель технологии, и получена зависимость распределения примеси в кремниевой подложке от концентрации бора в окисле и времени процесса диффузии. Выбраны оптимальные режимы создания теплораспределяющей области мембранного микросенсора с точки зрения минимизации градиента температуры. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | доклады БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | технология | ru_RU |
| dc.subject | диффузия | ru_RU |
| dc.subject | легирование | ru_RU |
| dc.subject | мебранный сенсор | ru_RU |
| dc.subject | теплораспределяющая область | ru_RU |
| dc.title | Моделирование формирования высоколегированных элементов микросенсора | ru_RU |
| dc.title.alternative | Simulation of the microsensor element technology with high concentrations of impurities | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| local.description.annotation | Construction of the thermal insulated membrane microsensor with heat-distributed area was investigated. Simulation of the diffusion process from sol-gel oxide film was performed. Dependency of
the impurity distribution in the silicon wafer from boron concentration in oxide and diffusion duration
was obtained. Optimal conditions for the heat-distributed area formation of the membrane microsensor
were selected from the point of view of the temperature gradient minimization. | - |
| Appears in Collections: | №1 (9)
|
