Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31294
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorСвадковский, И. В.-
dc.date.accessioned2018-04-28T11:43:50Z-
dc.date.available2018-04-28T11:43:50Z-
dc.date.issued2007-
dc.identifier.citationСвадковский, И. В. Аналитическое исследование совместного функционирования торцевого холловского ускорителя и магнетронной распылительной системы / И. В. Свадковский // Доклады БГУИР. - 2007. - № 4 (20). - С. 118 - 124.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31294-
dc.description.abstractПроведен анализ особенностей разрядов торцевого холловского ускорителя (ТХУ) и магнетронной распылительной системы (МРС), на основании чего установлены уравнения балансов токов для двухразрядной системы ТХУ-МРС. Теоретически обоснованы и экспериментально подтверждены условия взаимной стимуляции разрядов МРС и ТХУ. Приведен диапазон необходимой величины разрядного тока МРС для поддержания баланса заряженных частиц в безнакальной модификации разряда ТХУ и генерируемом им ионном пучке для реализации процесса ионного ассистирования магнетронному распылению, а также варианта ТХУ и источника электронов на основе разряда в скрещенных EЧH полях в квазизамкнутой области для процессов ионнoго ассистирования при испарении.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБГУИРru_RU
dc.subjectдоклады БГУИРru_RU
dc.subjectвыращивание пленокru_RU
dc.subjectмагнетронное распылениеru_RU
dc.subjectхолловский ускорительru_RU
dc.titleАналитическое исследование совместного функционирования торцевого холловского ускорителя и магнетронной распылительной системыru_RU
dc.title.alternativeAnalytical treatment of joint functioning of End-Hall ion source and magnetron sputtering systemru_RU
dc.typeСтатьяru_RU
local.description.annotationThe discharge features of the End-Hall ion source and magnetron sputtering systems have been investigated, on the bases of which the current balance equations for a dual-discharge system composed of the End-Hall ion source and the magnetron sputtering system were derived. The conditions of mutual stimulation of the End-Hall ion source and magnetron sputtering system discharges were theoretically estimated and experimentally proved. The range of values for the magnetron sputtering system discharge current essential to support the charged particles balance was obtained. The found range of values was employed to implement two processes, namely in the non- filament modification discharge End-Hall ion source for the ion beam assisted magnetron, and also for the End-Hall ion source and the electron source based on the discharge in the crossed EЧH fields.-
Appears in Collections:№4 (20)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Svadkovski_Analytica.pdf378.41 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.