| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Свадковский, И. В. | - |
| dc.date.accessioned | 2018-04-28T11:43:50Z | - |
| dc.date.available | 2018-04-28T11:43:50Z | - |
| dc.date.issued | 2007 | - |
| dc.identifier.citation | Свадковский, И. В. Аналитическое исследование совместного функционирования торцевого холловского ускорителя и магнетронной распылительной системы / И. В. Свадковский // Доклады БГУИР. - 2007. - № 4 (20). - С. 118 - 124. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31294 | - |
| dc.description.abstract | Проведен анализ особенностей разрядов торцевого холловского ускорителя (ТХУ) и
магнетронной распылительной системы (МРС), на основании чего установлены уравнения
балансов токов для двухразрядной системы ТХУ-МРС. Теоретически обоснованы и
экспериментально подтверждены условия взаимной стимуляции разрядов МРС и ТХУ.
Приведен диапазон необходимой величины разрядного тока МРС для поддержания баланса
заряженных частиц в безнакальной модификации разряда ТХУ и генерируемом им ионном
пучке для реализации процесса ионного ассистирования магнетронному распылению, а
также варианта ТХУ и источника электронов на основе разряда в скрещенных EЧH полях в
квазизамкнутой области для процессов ионнoго ассистирования при испарении. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | доклады БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | выращивание пленок | ru_RU |
| dc.subject | магнетронное распыление | ru_RU |
| dc.subject | холловский ускоритель | ru_RU |
| dc.title | Аналитическое исследование совместного функционирования торцевого холловского ускорителя и магнетронной распылительной системы | ru_RU |
| dc.title.alternative | Analytical treatment of joint functioning of End-Hall ion source and magnetron sputtering system | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| local.description.annotation | The discharge features of the End-Hall ion source and magnetron sputtering systems have
been investigated, on the bases of which the current balance equations for a dual-discharge system
composed of the End-Hall ion source and the magnetron sputtering system were derived.
The conditions of mutual stimulation of the End-Hall ion source and magnetron sputtering system
discharges were theoretically estimated and experimentally proved. The range of values for the
magnetron sputtering system discharge current essential to support the charged particles balance was
obtained. The found range of values was employed to implement two processes, namely in the non-
filament modification discharge End-Hall ion source for the ion beam assisted magnetron, and also
for the End-Hall ion source and the electron source based on the discharge in the crossed EЧH fields. | - |
| Appears in Collections: | №4 (20)
|
