Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item:
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorДолгий, А. Л.-
dc.contributor.authorКлышко, А. А.-
dc.contributor.authorБондаренко, В. П.-
dc.contributor.authorDolgiy, A. L.-
dc.contributor.authorKlyshko, A. A.-
dc.contributor.authorBondarenko, V. P.-
dc.identifier.citationДолгий, А. Л. Электрохимическое осаждение никеля на макро- и мезопористый кремний / А. Л. Долгий, А. А. Клышко, В. П. Бондаренко // Доклады БГУИР. - 2009. - № 1 (39). - С. 65 - 70.ru_RU
dc.description.abstractМетодом электрохимического анодирования кремниевых подложек в растворе фтористоводородной кислоты получены слои макро- и мезопористого кремния. Электрохимическим методом на пористый кремний были осаждены слои никеля. Методом сканирующей электронной микроскопии исследована структура полученных образцов. Исследована кинетика роста слоев никеля на мезопористом кремнии различной пористости.Layers of macro- and mesoporous silicon have been obtained by electrochemical anodization of silicon substrates in HF solution. Layers of nickel have been electrochemically deposited on porous silicon. Structure of samples has been examined with help of scanning electron microscopy. Kinetics of growth of nickel layers on mesoporous silicon with difference of porosity values has been investigated.ru_RU
dc.subjectдоклады БГУИРru_RU
dc.subjectэлектрохимическое анодированиеru_RU
dc.subjectпористый кремнийru_RU
dc.subjectсканирующая электронная микроскопияru_RU
dc.subjectэлектрохимическое осаждениеru_RU
dc.titleЭлектрохимическое осаждение никеля на макро- и мезопористый кремнийru_RU
dc.title.alternativeElectrochemical deposition of nickel on macro- and mesoporous siliconru_RU
Appears in Collections:№1 (39)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Douhi_Electrochemical.PDF519,52 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.