| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Плиговка, А. Н. | - |
| dc.contributor.author | Мозалев, А. М. | - |
| dc.date.accessioned | 2018-05-23T13:42:59Z | - |
| dc.date.available | 2018-05-23T13:42:59Z | - |
| dc.date.issued | 2008 | - |
| dc.identifier.citation | Плиговка, А. Н. Получение и свойства наноструктурных металлоксидных пленок на основе анодированных композиций Al/Ti = The formation and properties of nanostructured metal-oxide films based on the anodized Al/Ti compositions / А. Н. Плиговка, А. М. Мозалев // Доклады БГУИР. – 2008. – № 8 (38). – С. 50–57. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31613 | - |
| dc.description.abstract | Двухслойную тонкопленочную композицию Al/Ti формировали последовательным магнетронным напылением слоев Ti (40нм) и Al (400нм) на стеклянные пластины. Наноструктурированные металлоксидные пленки получали анодированием системы в трех различных электролитах при напряжениях 195, 80 и 25 В. Наночастицы металлов, остающиеся на границе раздела пленка/подложка, пробовали окислять с помощью высоковольтного реанодирования и термообработки. С помощью электронной микроскопии и электрических измерений установлено, что для образцов, полученных при 80 и 25 В частицы Al и Ti могут быть полностью оксидированы, а для образцов, полученных при 195 В алюминий остается в виде наноразмерной сетки с контролируемым сопротивлением. Полученные пленки могут применяться в качестве диэлектрических темплатов, микрорезисторов и оптических покрытий. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | доклады БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | электрохимическое анодирование | ru_RU |
| dc.subject | анодный оксид алюминия | ru_RU |
| dc.subject | оксид титана | ru_RU |
| dc.subject | наноструктурные металлоксиды | ru_RU |
| dc.subject | газовые микросенсоры | ru_RU |
| dc.title | Получение и свойства наноструктурных металлоксидных пленок на основе анодированных композиций Al/Ti | ru_RU |
| dc.title.alternative | The formation and properties of nanostructured metal-oxide films based on the anodized Al/Ti compositions | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| local.description.annotation | Al/Ti bilayer specimens were formed by a sequential magnetron sputtering of Ti(40nm) and
Al(400nm) layers onto glass substrates. Nanostructured metal-oxide films were grown by anodizing
the metal bilayers in three different electrolytes at 195, 80, and 25 V. A high-voltage reanodizing
followed by annealing was tried to oxidize Al and Ti nanoparticles remaining at the film/substrate
interface. Electron microscopy and resistivity measurements have shown that the metallic
nanoparticles can be fully oxidized in the 80-V and 25-V specimens while they always remain in the 195-V specimen as a self-organized nanosized grid with controlled resistivity. Potential applications of
these films are as nanoporous dielectric templates, microresistors, and optical coatings. | - |
| Appears in Collections: | №8 (38)
|
