DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | Циркунова, Н. Г. | - |
dc.contributor.author | Лазарук, С. К. | - |
dc.contributor.author | Ухов, В. А. | - |
dc.contributor.author | Борисенко, В. Е. | - |
dc.date.accessioned | 2018-06-05T12:48:23Z | - |
dc.date.available | 2018-06-05T12:48:23Z | - |
dc.date.issued | 2008 | - |
dc.identifier.citation | Наноструктурные свойства тонких пленок ниобия = Nanostructure properties of niobium thin films / Н. Г. Циркунова [и др.] // Доклады БГУИР. – 2008. – № 4 (34). – С. 48–53. | ru_RU |
dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31787 | - |
dc.description.abstract | Исследованы структурные изменения тонких пленок ниобия, нанесенных магнетронным распылением; определена их пригодность для формирования наноразмерных структур с помощью атомного силового микроскопа (АСМ). Изучены структурные изменения в ниобиевых пленках, вызванные примесью железа (10 ат.%). Установлено, что в пределах толщин пленки 15–200 нм этот параметр существенно влияет на зернистость и шероховатость поверхности в отличие от чистых пленок. Показано, что основным ограничением в использовании ниобиевых пленок для формирования наноструктур является образование пленки естественного окисла на их поверхности после извлечения из вакуумной камеры. | ru_RU |
dc.language.iso | ru | ru_RU |
dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
dc.subject | доклады БГУИР | ru_RU |
dc.subject | атомно-силовая микроскопия | ru_RU |
dc.subject | модификация поверхности | ru_RU |
dc.subject | параметры поверхности | ru_RU |
dc.title | Наноструктурные свойства тонких пленок ниобия | ru_RU |
dc.title.alternative | Nanostructure properties of niobium thin films | ru_RU |
dc.type | Статья | ru_RU |
local.description.annotation | Structure of thin niobium films deposited by magnetron sputtering was studied in order to estimate their use for nanostructure fabrication with atomic force microscope (AFM). Thickness of the
film in the range of 15-200 nm was found to determine the groin size and the surface roughness.
An influence of the film doping with iron (10 %) was also analyzed. Formation of the natural oxide
film of the thickness up to 20 nm on the top of the niobium film extracted from the vacuum chamber
to air was shown to be the main limiting factor in the nanostructure fabrication with the use of niobium
films. | - |
Appears in Collections: | №4 (34)
|