Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31787
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorЦиркунова, Н. Г.-
dc.contributor.authorЛазарук, С. К.-
dc.contributor.authorУхов, В. А.-
dc.contributor.authorБорисенко, В. Е.-
dc.date.accessioned2018-06-05T12:48:23Z-
dc.date.available2018-06-05T12:48:23Z-
dc.date.issued2008-
dc.identifier.citationНаноструктурные свойства тонких пленок ниобия = Nanostructure properties of niobium thin films / Н. Г. Циркунова [и др.] // Доклады БГУИР. – 2008. – № 4 (34). – С. 48–53.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31787-
dc.description.abstractИсследованы структурные изменения тонких пленок ниобия, нанесенных магнетронным распылением; определена их пригодность для формирования наноразмерных структур с помощью атомного силового микроскопа (АСМ). Изучены структурные изменения в ниобиевых пленках, вызванные примесью железа (10 ат.%). Установлено, что в пределах толщин пленки 15–200 нм этот параметр существенно влияет на зернистость и шероховатость поверхности в отличие от чистых пленок. Показано, что основным ограничением в использовании ниобиевых пленок для формирования наноструктур является образование пленки естественного окисла на их поверхности после извлечения из вакуумной камеры.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБГУИРru_RU
dc.subjectдоклады БГУИРru_RU
dc.subjectатомно-силовая микроскопияru_RU
dc.subjectмодификация поверхностиru_RU
dc.subjectпараметры поверхностиru_RU
dc.titleНаноструктурные свойства тонких пленок ниобияru_RU
dc.title.alternativeNanostructure properties of niobium thin filmsru_RU
dc.typeСтатьяru_RU
local.description.annotationStructure of thin niobium films deposited by magnetron sputtering was studied in order to estimate their use for nanostructure fabrication with atomic force microscope (AFM). Thickness of the film in the range of 15-200 nm was found to determine the groin size and the surface roughness. An influence of the film doping with iron (10 %) was also analyzed. Formation of the natural oxide film of the thickness up to 20 nm on the top of the niobium film extracted from the vacuum chamber to air was shown to be the main limiting factor in the nanostructure fabrication with the use of niobium films.-
Appears in Collections:№4 (34)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Tsirkunova_Nanostructure.PDF476.67 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.