DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | Шиманович, Д. Л. | - |
dc.contributor.author | Яковцева, В. А. | - |
dc.contributor.author | Шиманович, А. Д. | - |
dc.contributor.author | Беспрозванный, Е. Д. | - |
dc.contributor.author | Алясова, Е. Е. | - |
dc.date.accessioned | 2018-12-06T13:58:37Z | - |
dc.date.available | 2018-12-06T13:58:37Z | - |
dc.date.issued | 2018 | - |
dc.identifier.citation | Технологические особенности сквозного двухстороннего анодирования при формировании алюмооксидных оснований для микрополосковых СВЧ-структур / Д. Л. Шиманович и другие // Новые материалы и перспективные технологии : сборник материалов Четвертого междисциплинарного научного форума с международным участием, Москва, 2018 г. : в 3-х т., секция 4 «Функциональные материалы» / Буки Веди. - Москва, 2018. – Т. 2. – С. 771 - 774. | ru_RU |
dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/33763 | - |
dc.description.abstract | Представлены результаты разработки технологических способов формирования оснований для структур СВЧ-диапазона в виде толстослойных (100 – 400 мкм) свободных пластин анодного оксида алюминия. | ru_RU |
dc.language.iso | ru | ru_RU |
dc.publisher | Буки Веди | ru_RU |
dc.subject | публикации ученых | ru_RU |
dc.subject | анодированный алюминий | ru_RU |
dc.subject | биполярное анодирование | ru_RU |
dc.subject | anodized aluminum | ru_RU |
dc.subject | bipolar anodization | ru_RU |
dc.title | Технологические особенности сквозного двухстороннего анодирования при формировании алюмооксидных оснований для микрополосковых СВЧ-структур | ru_RU |
dc.type | Статья | ru_RU |
local.description.annotation | The results of the development of technological solutions for the structures of the microwave range in the form of thick-layer (100 - 400 microns) free plates of anodic aluminum oxide are presented. | - |
Appears in Collections: | Публикации в зарубежных изданиях
|