Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/33920
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorНевлюдов, И. Ш.-
dc.contributor.authorГурин, Д. В.-
dc.contributor.authorГурин, В. Н.-
dc.contributor.authorХрусталев, К. Л.-
dc.date.accessioned2018-12-19T06:50:58Z-
dc.date.available2018-12-19T06:50:58Z-
dc.date.issued2018-
dc.identifier.citationНизкотемпературная плазма магнетронного разряда / И. Ш. Невлюдов и др. // Доклады БГУИР. - 2018. - № 8 (118). - С. 93 - 100.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/33920-
dc.description.abstractВ статье исследуется низкотемпературная плазма магнетронного разряда устройства, используемого для синтеза диэлектрических пленок реактивным катодным распылением [1]. Целью исследования является определение температурных характеристик частиц плазмы и распыленного вещества, а также механизма образования химической связи между распыленными атомами и молекулами активного газа. Исследование состава и энергетических параметров плазмы, а также химический состав полученных при распылении частиц вещества, проведен спектроскопическим методом. Количественный состав определялся масс-спектрометром для определения состава распыленных частиц.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБГУИРru_RU
dc.subjectдоклады БГУИРru_RU
dc.subjectмагнетронная камераru_RU
dc.subjectмасс-спектрометрияru_RU
dc.subjectазотная плазмаru_RU
dc.subjectраспылениеru_RU
dc.subjectаргоновая плазмаru_RU
dc.subjectmagnetron chamberru_RU
dc.subjectmass spectrometryru_RU
dc.subjectnitrogen plasmaru_RU
dc.subjectatomizationru_RU
dc.subjectargon plasmaru_RU
dc.titleНизкотемпературная плазма магнетронного разрядаru_RU
dc.title.alternativeLow-temperature plasma magnetron dischargeru_RU
dc.typeСтатьяru_RU
local.description.annotationThe article investigates a low-temperature plasma of the magnetron discharge of a device used for the synthesis of dielectric films by reactive cathode sputtering. The aim of the study is to determine the temperature characteristics of plasma particles and a sputtered substance, as well as the mechanism for the formation of a chemical bond between sputtered atoms and active gas molecules. A study of the composition and energy parameters of the plasma, as well as the chemical composition of the particles obtained by sputtering, was carried out by a spectroscopic method. The quantitative composition was determined by a mass spectrometer to determine the composition of the sputtered particles.-
Appears in Collections:№8 (118)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Nevlyudov_Nizkotemperaturnaya.PDF1.65 MBAdobe PDFView/Open
Show simple item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.