Анодное формирование ниобиевых наносеток с полупроводниковыми островками

Abstract

Двухслойные системы Al/Nb (300/1500 нм) были проанодированы в водных растворах 0,4 М ортофосфорной, 0,2 и 0,4 М винной, 0,2 М лимонной кислот при постоянных анодных напряжениях 150, 200, 250 и 300 В, исследованы морфологические характеристики сформированных наноструктур и определены граничные условия формирования ниобиевых наносеток c полупроводниковыми островками на этапе анодирования. Установлено, что для формирования ниобиевой наносетки на этапе анодирования в 0,4 М ортофосфорной и 0,4 М винной кислоте требуется напылить не более ~75 нм ниобия, а для водных 0,2 М растворов винной и 0,2 М лимонной кислот – не более ~100 нм. Полученные результаты открывают возможности изготовления и применения ниобиевых наносеток в оптоэлектронных системах, биосенсорах, солнечной энергетике и др.