| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Мельников, С. Н. | - |
| dc.date.accessioned | 2020-02-13T14:16:03Z | - |
| dc.date.available | 2020-02-13T14:16:03Z | - |
| dc.date.issued | 2019 | - |
| dc.identifier.citation | Мельников, С. Н. Комплексное моделирование планарных магнетронных распылительных систем и процессов нанесения тонких пленок металлов: автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.27.06 / С. Н. Мельников ; науч. рук. С. П. Кундас. – Минск : БГУИР, 2019. – 27 с. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/38547 | - |
| dc.description.abstract | Актуальной научной и практической задачей является
комплексное компьютерное моделирование и проектирование, как отдельных
высокоэффективных магнетронных распылительных систем, так и
технологических процессов нанесения тонких пленок, и систем магнетронно-
го распыления с различным взаимным расположением магнетронных распылительных систем относительно подложек, которые обеспечивают высокое качество наносимых пленок. Это
позволит сократить время и стоимость разработок, а также минимизировать
возможные ошибки при проектировании таких систем. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | авторефераты диссертаций | ru_RU |
| dc.subject | магнетронная распылительная система | ru_RU |
| dc.subject | магнетронный разряд | ru_RU |
| dc.subject | математическое моделирование | ru_RU |
| dc.title | Комплексное моделирование планарных магнетронных распылительных систем и процессов нанесения тонких пленок металлов | ru_RU |
| dc.type | Автореферат | ru_RU |
| Appears in Collections: | 05.27.06 Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники
|
