| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Клакевич, М. С. | - |
| dc.date.accessioned | 2020-12-07T05:57:26Z | - |
| dc.date.available | 2020-12-07T05:57:26Z | - |
| dc.date.issued | 2020 | - |
| dc.identifier.citation | Клакевич, М. С. Анализ процессов плазмохимической обработки материалов в проточных туннельных реакторах при среднем вакууме / Клакевич М. С. // Актуальные вопросы физики и техники : материалы IX Республиканской научной конференции студентов, магистрантов и аспирантов, Гомель, 23 апреля 2020 года : в 2 ч. / Гомельский государственный университет им. Франциска Скорины ; редкол.: Д. Л. Коваленко (гл. ред.) [ и др.]. – Гомель : ГГУ им. Ф. Скорины, 2020. – Ч. 1. – С. 53–55. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/41494 | - |
| dc.description.abstract | Для ВЧ разрядов существует разные способы возбуждения. К первой группе относятся индукционные разряды, где разряд возбуждается путем подачи переменного тока в соленоид, внутри которого расположен реактор из диэлектрического материала. Ко второй группе относятся разряды, в которых переменное напряжение подается на электроды, которые могут находиться в непосредственном контакте с плазмой, либо быть изолированными от нее. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | Гомельский государственный университет имени Франциска Скорины | ru_RU |
| dc.subject | публикации ученых | ru_RU |
| dc.subject | плазмохимическая обработка | ru_RU |
| dc.subject | высокочастотные разряды | ru_RU |
| dc.subject | реакторы | ru_RU |
| dc.title | Анализ процессов плазмохимической обработки материалов в проточных туннельных реакторах при среднем вакууме | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| Appears in Collections: | Публикации в изданиях Республики Беларусь
|
