Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47158
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorПигаль, Р. В.-
dc.contributor.authorБоровиков, С. М.-
dc.contributor.authorЛагуцкий, И. А.-
dc.contributor.authorТерещук, О. И.-
dc.coverage.spatialРоссийская Федерация-
dc.date.accessioned2022-05-31T11:10:22Z-
dc.date.available2022-05-31T11:10:22Z-
dc.date.issued2022-
dc.identifier.citationИспользование ионного травления металла для улучшения адгезии DLC-покрытий, получаемых методом HiPIMS / Пигаль Р. В. [и др.] // Интернаука. – №11(234), ч. 2. - 2022. – С. 60 – 64.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47158-
dc.description.abstractЦелью работы являлась оценка влияния предварительного травления стальной подложки на адгезию алмазоподобного покрытия (DLC-покрытия). Исследовалась морфология и микроструктура образцов по фотографиям, получаемым с помощью сканирующего электронного микроскопа. Установлено, что методы магнетронного распыления импульсами высокой мощности (англоязычное сокращение HiPIMS) с предварительным травлением материалами Cr (хром) и Ti (титан) при отрицательном смещением на подложке показывают лучшие результаты, нежели травление ионами Ar (аргон).ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherИнтернаукаru_RU
dc.subjectпубликации ученыхru_RU
dc.subjectалмазоподобные покрытияru_RU
dc.subjectтонкоплёночные технологииru_RU
dc.subjectимпульсное магнетронное распылениеru_RU
dc.subjectdiamond-like coating (DLC)ru_RU
dc.subjectthin-film technologiesru_RU
dc.subjectpulsed magnetron sputteringru_RU
dc.titleИспользование ионного травления металла для улучшения адгезии DLC-покрытий, получаемых методом HiPIMSru_RU
dc.title.alternativeUse of ion etching of metal to improve the adhesion of DLC-coatings obtained by HiPIMS methodru_RU
dc.typeArticleru_RU
local.description.annotationThe aim of this work was to evaluate the effect of pre-etching of a steel substrate on the adhesion of a diamond-like coating (DLC-coating). The morphology and microstructure of the samples were studied using photographs taken with a scanning electron microscope. It has been established that the methods of magnetron sputtering with high-power pulses (abbreviated in English as HiPIMS) with preliminary etching with Cr (chromium) and Ti (titanium) materials with a negative bias on the substrate show better results than etching with Ar (argon) ions.-
Appears in Collections:Публикации в зарубежных изданиях

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Pigal_Ispolzovaniye.pdf567.86 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.