| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Филатов, В. П. | - |
| dc.coverage.spatial | Минск | ru_RU |
| dc.date.accessioned | 2023-05-30T08:01:22Z | - |
| dc.date.available | 2023-05-30T08:01:22Z | - |
| dc.date.issued | 2023 | - |
| dc.identifier.citation | Филатов, В. П. Плагин корректного маскирования объектов в The Foundry Nuke = Control of microcontroller under the influence of electrostatic discharge / Филатов В. П. // Электронные системы и технологии : сборник материалов 59-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 17–21 апреля 2023 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2023. – С. 878–879. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/51643 | - |
| dc.description.abstract | В статье рассматривается плагин корректного маскирования объектов в The Foundry Nuke. За 20 лет существования программы, не были решены основные проблемы, с которыми сталкиваются пользователи. Одна из таких проблем ‒ это получение маски физически корректным образом с помощью плагина. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
| dc.subject | композитинг | ru_RU |
| dc.subject | маскирование объектов | ru_RU |
| dc.subject | программное обеспечение | ru_RU |
| dc.subject | Nuke | ru_RU |
| dc.title | Плагин корректного маскирования объектов в The Foundry Nuke | ru_RU |
| dc.title.alternative | Control of microcontroller under the influence of electrostatic discharge | ru_RU |
| dc.type | Article | ru_RU |
| local.description.annotation | This article discusses the plugin for correctly masking objects in The Foundry Nuke. In the 20 years of the program's existence, the main problems faced by users have not been solved. One such problem is getting the mask physically correct with the plugin. | ru_RU |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 59-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2023)
|
