Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/52273
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorДоан, Х. Т.-
dc.contributor.authorГолосов, Д. А.-
dc.contributor.authorДжанг, Дж.-
dc.contributor.authorЗавадский, С. М.-
dc.contributor.authorМельников, С. Н.-
dc.contributor.authorНгуен, Т. Д.-
dc.coverage.spatialМинскru_RU
dc.date.accessioned2023-06-26T11:18:17Z-
dc.date.available2023-06-26T11:18:17Z-
dc.date.issued2023-
dc.identifier.citationМодель процесса реактивного магнетронного распыления двухкомпонентной составной мишени=Model of Reactive Magnetron Sputtering of a Two-Component Composite Target / Х. Т. Доан [и др.] // Доклады БГУИР. – 2023. – Т. 21, № 3. – С. 17-25.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/52273-
dc.description.abstractВ статье предложена модель для прогнозирования содержания металлических составляющих пленок сложных оксидов, наносимых методом реактивного магнетронного распыления двухкомпонентной составной мишени в среде Ar/O2 рабочих газов. В модели учитывались коэффициенты распыления и ионно-электронной эмиссии распыляемых металлов и их оксидов, распределение плотности ионного тока на мишени и скорости химической реакции образования оксидов этих металлов. Для верификации предложенной модели проведены исследования элементного состава пленок оксида титана-алюминия, нанесенных магнетронным распылением Ti-Al составной мишени в среде Ar и Ar/O2 рабочих газов. Установлено, что модель адекватно описывает изменение содержания металлов в нанесенных пленках при изменении потока кислорода в камеру. Погрешность моделирования – не более 10 %, что позволяет применять модель для прогнозирования содержания металлов в пленке при реактивном распылении двухкомпонентных составных мишеней.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБГУИРru_RU
dc.subjectдоклады БГУИРru_RU
dc.subjectреактивное магнетронное распылениеru_RU
dc.subjectсоставные мишениru_RU
dc.subjectтонкие пленкиru_RU
dc.titleМодель процесса реактивного магнетронного распыления двухкомпонентной составной мишениru_RU
dc.title.alternativeModel of Reactive Magnetron Sputtering of a Two-Component Composite Targetru_RU
dc.typeArticleru_RU
dc.identifier.DOIhttp://dx.doi.org/10.35596/1729-7648-2023-21-3-17-25-
local.description.annotationThe article proposes a model for predicting the content of metal components of complex oxide films deposited by reactive magnetron sputtering of a two-component composite target in Ar/O 2 gas mixture. The model takes into account the sputtering yield and ion-electron emission coefficients of the sputtered metals and their oxides, the distribution of the ion current density on the target, and the rate of the chemical reaction of the formation of oxides of these metals. To verify the proposed model, studies of the elemental composition of titanium-alumi- num oxide films deposited by magnetron sputtering of a Ti-Al composite target in Ar and Ar/O 2 gas mixture were carried out. It has been established that the model adequately describes the change in the content of metals in the deposited films with a change in the oxygen flow into the chamber. The simulation error does not exceed 10 %, this makes it possible to use the proposed model for predicting the content of metals in a film during reactive sputtering of two-component composite targets.ru_RU
Appears in Collections:Том 21, № 3

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Doan_Model.pdf579.09 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.