| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Леонович, Н. В. | - |
| dc.contributor.author | Товт, П. Д. | - |
| dc.contributor.author | Котов, Д. А. | - |
| dc.coverage.spatial | Минск | en_US |
| dc.date.accessioned | 2023-09-01T08:49:39Z | - |
| dc.date.available | 2023-09-01T08:49:39Z | - |
| dc.date.issued | 2023 | - |
| dc.identifier.citation | Леонович, Н. В. Формирование алмазоподобных углеродных покрытий методом химического осаждения в плазме высокой плотности=Formation of Diamond-Like Carbon Coatings by Chemical Deposition in High Density Plasma / Н. В. Леонович, П. Д. Товт, Д. А. Котов // Доклады БГУИР. – 2023. – Т. 21, № 4. – С. 33–39. | en_US |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/52678 | - |
| dc.description.abstract | В статье представлен разработанный технологический реактор для формирования алмазоподобного углеродного покрытия на подложках диаметром до 200 мм методом химического осаждения из газовой фазы в индуктивно-связанной плазме высокой плотности при рабочем давлении менее 5 Па.
Приведены результаты экспериментальных исследований по получению алмазоподобного углеродного покрытия в данном реакторе. Установлены зависимости скорости осаждения углеродного покрытия от мощности ВЧ-разряда, рабочего давления и расхода пленкообразующего газообразного реагента. Рассмотрены режимы получения алмазоподобных углеродных покрытий с наилучшими механическими свойствами при следующих параметрах процесса: ВЧ-мощность – 600–900 Вт, расход газа прекурсора – 15–50 см 3 /мин, соотношение объемов плазмообразующего и пленкообразующего газов – 3:1 при остаточном давлении в рабочей камере не более 4 Па. С помощью метода спектроскопии комбинационного рассеяния показано, что в покрытиях, полученных при эффективных режимах, в значительном количестве содержится алмазоподобная фаза. | en_US |
| dc.language.iso | ru | en_US |
| dc.publisher | БГУИР | en_US |
| dc.subject | доклады БГУИР | en_US |
| dc.subject | спектроскопия | en_US |
| dc.subject | алмазоподобные углеродные покрытия | en_US |
| dc.subject | химическое осаждение | en_US |
| dc.title | Формирование алмазоподобных углеродных покрытий методом химического осаждения в плазме высокой плотности | en_US |
| dc.title.alternative | Formation of Diamond-Like Carbon Coatings by Chemical Deposition in High Density Plasma | en_US |
| dc.type | Article | en_US |
| dc.identifier.DOI | http://dx.doi.org/10.35596/1729-7648-2023-21-4-33-39 | - |
| local.description.annotation | A developed technological reactor for the formation of a diamond-like carbon coating on substrates up to 200 mm in diameter by chemical vapor deposition in high-density inductively coupled plasma at an operating pressure below 5 Pa is described. The results of experimental studies on obtaining a diamond-like carbon coating in the developed reactor are presented. The dependences of the rate of deposition of a diamond-like carbon coating on the power of the RF discharge, the operating pressure, and the consumption of the film-forming gaseous reagent have been established. Also, for the developed technological reactor, the modes for obtaining diamond-like carbon coatings with the best mechanical properties were established with the following process parameters: RF power 600–900 W, precursor gas flow rate 15–50 cm 3 /min, the ratio of plasma-forming gas volumes to film-forming gas volume 3:1 at a residual pressure in the working chamber of not more than 4 Pa. It has been shown by Raman spectroscopy that the coatings obtained under efficient conditions co ntain a significant amount of a diamond-like phase. | en_US |
| Appears in Collections: | Том 21, № 4
|
