Skip navigation
DSpace logo
  1. Репозиторий БГУИР
  2. Авторефераты диссертаций и отчеты о НИР
  3. Авторефераты кандидатских диссертаций
  4. 05.27.06 Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5280
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorКотов, Д. А.-
dc.date.accessioned2015-12-15T11:09:25Z
dc.date.accessioned2017-07-20T07:51:43Z-
dc.date.available2015-12-15T11:09:25Z
dc.date.available2017-07-20T07:51:43Z-
dc.date.issued2005-
dc.identifier.citationКотов, Д. А. Сильноточные источники ионов низких энергий для модификации поверхности и синтеза тонкопленочных структур: автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.27.06 / Д. А. Котов; науч. рук. А. П. Достанко. - Мн.: БГУИР, 2005. - 22 с.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5280-
dc.description.abstractЦелью работы является разработка сильноточных разрядных систем с замкнутым холловским током, исследование и совершенствование процессов высокоэффективной ионно-лучевой обработки.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБГУИРru_RU
dc.subjectавторефераты диссертацийru_RU
dc.subjectнизковольтный разрядru_RU
dc.subjectисточник ионовru_RU
dc.subjectинтегрированная ионно-плазменная системаru_RU
dc.subjectмодификация поверхностиru_RU
dc.subjectсинтез тонкопленочных структурru_RU
dc.subjectlow voltage dischargeru_RU
dc.subjection sourceru_RU
dc.subjectintegrated ion-plasma systemru_RU
dc.subjectsurface modificationru_RU
dc.subjectthin film structure synthesisru_RU
dc.titleСильноточные источники ионов низких энергий для модификации поверхности и синтеза тонкопленочных структурru_RU
dc.title.alternativeHigh current low energy ion sources for surface modification and thin film synthesisru_RU
dc.typeAbstract of the thesisru_RU
local.description.annotationThe aim of the work is the development of high-current gas-discharge ion sources with a closed Hall current, research and perfecting the processes of high efficacy ion-beam processing.-
Appears in Collections:05.27.06 Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Котов.pdf1.43 MBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.