| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Мадвейко, С. И. | - |
| dc.date.accessioned | 2015-12-15T12:28:35Z | - |
| dc.date.accessioned | 2017-07-20T07:51:43Z | - |
| dc.date.available | 2015-12-15T12:28:35Z | - |
| dc.date.available | 2017-07-20T07:51:43Z | - |
| dc.date.issued | 2013 | - |
| dc.identifier.citation | Мадвейко, С. И. Вакуумно-плазменная СВЧ разрядная система резонаторного типа для плазмохимического удаления фоторезистивных слоев: автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.27.06 / С. И. Мадвейко; науч. рук. С. В. Бордусов. - Минск : БГУИР, 2013. - 15 с. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5286 | - |
| dc.description.abstract | Цель работы: установление закономерностей и характерных особенностей формирования, поддержания и управления взаимодействием химически активной плазмы СВЧ разряда с поверхностью твердого тела при низком вакууме в плазмотроне резонаторного типа с частичным заполнением плазмой объема резонирующей камеры и на этой основе обеспечение выбора высокоэффективных режимов проведения технологических процессов и совершенствование конструкции оборудования СВЧ плазмохимической обработки материалов. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | авторефераты диссертаций | ru_RU |
| dc.subject | СВЧ магнетрон | ru_RU |
| dc.subject | СВЧ плазма | ru_RU |
| dc.subject | СВЧ плазмохимическая обработка | ru_RU |
| dc.subject | фоторезист | ru_RU |
| dc.subject | удаление | ru_RU |
| dc.subject | реакционно-разрядная камера | ru_RU |
| dc.subject | резонатор | ru_RU |
| dc.subject | microwave magnetron | ru_RU |
| dc.subject | microwave plasma | ru_RU |
| dc.subject | microwave plasma chemical processing | ru_RU |
| dc.subject | photoresist | ru_RU |
| dc.subject | ashing | ru_RU |
| dc.subject | reactive discharge chamber | ru_RU |
| dc.subject | resonator | ru_RU |
| dc.title | Вакуумно-плазменная СВЧ разрядная система резонаторного типа для плазмохимического удаления фоторезистивных слоев | ru_RU |
| dc.title.alternative | Vacuum-plasmatic microwave discharge resonant type system for plasma chemical ashing of photoresist layers | ru_RU |
| dc.type | Abstract of the thesis | ru_RU |
| local.description.annotation | The aim of the work: To establish patterns and characteristics of the formation, maintenance and management of interaction of chemically active plasma microwave discharge with a surface of solid at low vacuum in plazmatron of a cavity-type partially filled with plasma volume resonating chamber and on this basis, providing of the choice of highly efficient modes of carrying out the technological processes and improving hardware design of microwave plasma-chemical processing of materials. | - |
| Appears in Collections: | 05.27.06 Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники
|
