Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/53257
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorНгуен Ван Ту Ань-
dc.coverage.spatialМинскen_US
dc.date.accessioned2023-10-18T08:13:00Z-
dc.date.available2023-10-18T08:13:00Z-
dc.date.issued2023-
dc.identifier.citationНгуен Ван Ту Ань. Исследование влияния газовой среды при реактивном магнетронном распылении на распределение электрофизических свойств и толщины пленок оксидов : автореф. дисс. ... магистра технических наук : 1-36 80 08 / Нгуен Ван Ту Ань ; науч. рук. Д. А. Голосов. – Минск : БГУИР, 2023. – 10 с.en_US
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/53257-
dc.language.isoruen_US
dc.publisherБГУИРen_US
dc.subjectавторефераты диссертацийen_US
dc.subjectтехнические наукиen_US
dc.subjectпленки оксидовen_US
dc.subjectмикроэлектроникаen_US
dc.titleИсследование влияния газовой среды при реактивном магнетронном распылении на распределение электрофизических свойств и толщины пленок оксидовen_US
dc.typeThesisen_US
Appears in Collections:1-36 80 08 Инженерная геометрия и компьютерная графика

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Nguen_Van_Tu_An_Issledovanie.pdf117.75 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.